Geležies vanadis, skirtas lydiniams lydyti

Ferovanadis yra esminis legiravimo elementas, naudojamas įvairių plieno ir geležies lydinių gamyboje.

Siųsti užklausą

Aprašymas

Produktų aprašymas

Svarbu pažymėti, kad tikslios ferovanadžio ir gauto lydinio savybės priklauso nuo lydymo metu naudojamos sudėties ir apdorojimo metodų. Gamintojai ir lydinių gamintojai atidžiai kontroliuoja ferovanadžio pridėjimą, kad pasiektų norimas medžiagos savybes konkrečioms reikmėms.

Specifikacija

Ferro Vandadium FeV sudėtis (%)
Įvertinimas	V	Al	P	Si	C
FeV40-A	38-45	1.5	0.09	2.00	0.60
FeV40-B	38-45	2.0	0.15	3.00	0.80

product-450-450

Ferovanadis yra esminis legiravimo elementas, naudojamas įvairių plieno ir geležies lydinių gamyboje. Jis pirmiausia pridedamas siekiant pagerinti šių lydinių mechanines savybes ir eksploatacines savybes. Štai kelios pagrindinės ferovanadžio, skirto lydiniams lydyti, charakteristikos:

Vanadžio kiekis: Ferrovanadiume paprastai yra didelis vanadžio procentas, paprastai nuo 30% iki 80% masės. Tiksli sudėtis priklauso nuo konkrečios paskirties ir norimų lydinio savybių.

Stiprinamasis poveikis: ferovanadžio pridėjimas prie plieno ar geležies lydinių suteikia puikų stiprumą, tvirtumą ir atsparumą dilimui. Tai padeda gaminti didelio stiprumo mažai legiruotą (HSLA) plieną, kuris pritaikomas konstrukcijų komponentuose ir automobilių dalyse.

Grūdų rafinavimas: Ferovanadis palengvina grūdų rafinavimą lydinių mikrostruktūroje, todėl padidėja stiprumas ir kietumas. Kietėjimo proceso metu jis pagerina grūdelių dydį, todėl pagerėja mechaninės savybės.

Deoksiduojantis agentas: Ferovanadis veikia kaip deoksidatorius lydinio lydymosi metu, padedantis pašalinti deguonį iš lydalo. Tai prisideda prie švaresnių ir homogeniškesnių lydinių gamybos.

Aukšta lydymosi temperatūra: Vanadžio aukšta lydymosi temperatūra yra maždaug 1910 laipsnių (3470 laipsnių F). Dėl to ferovanadis idealiai tinka naudoti aukštoje temperatūroje, pavyzdžiui, gaminant karščiui atsparius lydinius, skirtus aviacijos ir energijos gamybos pramonei.